隨著
黑體輻射源的快速發(fā)展，其應用領域也越來越廣泛。而不同領域中對黑體輻射源的要求也不相同，下面分別從不同領域介紹黑體爐的應用：
從光學上看，一般需要輻射源的輻射面積比較大，但溫度要求卻不高。因此注重輻射面的溫度均勻性高于輻射的能量和溫度之間相互對照的準確度，從而選擇面源黑體的較多。但隨著科技發(fā)展飛速，現(xiàn)在光學領域中都用到了口徑比較大而發(fā)生率不需要很高的高溫黑體。
在研究或者測試中用到的黑體，一般都依據(jù)客戶的需求進行設計。如果黑體是用于測量材料光譜發(fā)射率的，那么可以選擇在腔式以及面源黑體中間的黑體。其可以在輻射溫度儀中來用來定點或者校準。
黑體輻射源也有應用在國防軍工的系統(tǒng)中。因為此類黑體形狀如小手指，所以它也被稱為指狀黑體。目標模擬器也是黑體的一種。在模擬目標時，其可以在一個平面上分出多個不同的溫度領域，是的面源黑體。
黑體輻射源強大的功能使其可以在不同的領域中被使用。因此，我們要掌握黑體輻射源的工作原理，熟悉其使用方法。
